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熱設(shè)計(jì)網(wǎng)

貼近5G 遠(yuǎn)離輻射——5G引領(lǐng)電磁屏蔽材料升級(jí)

熱設(shè)計(jì)網(wǎng)

通信基站又稱無(wú)線基站,是實(shí)現(xiàn)信息化的戰(zhàn)略性基礎(chǔ)設(shè)施。未來(lái)5G超密集組網(wǎng)將會(huì)部署更多的基站。基站工作時(shí),電磁波信號(hào)由發(fā)射天線向空間發(fā)送,發(fā)射天線是基站電磁輻射的根源。目前,全球正在加快推動(dòng)部署5G移動(dòng)通信商用,移動(dòng)通信基站及應(yīng)用終端的電磁屏蔽處理工作尤為迫切。2019年1月1日,生態(tài)環(huán)境部頒發(fā)的《移動(dòng)通信基站電磁輻射防護(hù)監(jiān)測(cè)方法》正式生效,凸顯國(guó)家對(duì)基站電磁防護(hù)的高度重視。

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電子設(shè)備工作時(shí),既不希望被外界電磁波干擾,又不希望自身輻射出電磁波干擾外界設(shè)備以及對(duì)人體造成輻射危害,所以需要阻斷電磁波的傳播路徑,這就是電磁屏蔽。要了解電磁屏蔽,首先要理解三個(gè)名詞:電磁兼容性(Electromagnetic Compatibility)縮寫(xiě)EMC,就是指某電子設(shè)備既不干擾其它設(shè)備,同時(shí)也不受其它設(shè)備的影響。電子元件對(duì)外界的干擾,稱為EMI(Electromagnetic Interference);電磁波會(huì)與電子元件作用,產(chǎn)生被干擾現(xiàn)象,稱為EMS(Electromagnetic  Susceptibility)。

電磁屏蔽機(jī)理  

電磁波在空間傳播時(shí)的衰減主要是基于電磁波的反射和吸收:

(1)電磁波傳播到屏蔽體表面時(shí),由于空氣與屏蔽體界面處波阻抗發(fā)生突變,電磁波產(chǎn)生了反射;

(2)電磁波通過(guò)金屬材料表面后,金屬材料會(huì)由于感應(yīng)電動(dòng)勢(shì)形成渦流,渦流磁場(chǎng)與原來(lái)磁場(chǎng)方向相反、相互抵消,從而實(shí)現(xiàn)屏蔽作用,也就是吸收損耗;

(3)在屏蔽體內(nèi)未衰減掉的電磁波,傳播到屏蔽體另一表面時(shí),遇到阻抗突變的金屬-空氣界面再次發(fā)生反射,重新返回屏蔽體內(nèi)后產(chǎn)生多次反射。

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電磁屏蔽效果可用屏蔽衰減來(lái)表示,屏蔽衰減代表干擾場(chǎng)強(qiáng)通過(guò)屏蔽體受到的衰減值。屏蔽衰減(單位:dB)定義為:

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式中,E1和H1為入射到屏蔽體前電場(chǎng)強(qiáng)度和磁場(chǎng)強(qiáng)度,E2和H2從屏蔽體透過(guò)后的電場(chǎng)強(qiáng)度和磁場(chǎng)強(qiáng)度。

電磁屏蔽的吸收損耗和反射損耗的計(jì)算公式如下:

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式中,A表示吸收損耗,R表示反射損耗,r表示屏蔽體與場(chǎng)源的距離,μ為相對(duì)磁導(dǎo)率,σ為相對(duì)電導(dǎo)率, f為電磁波頻率。

從上述公式可以看出,隨著電磁波頻率的增加,吸收損耗所占的比例隨之增加,而反射損耗所占的比例隨之減少。因此,對(duì)于高頻電磁蔽,主要利用高電導(dǎo)率的金屬材料產(chǎn)生渦流,用以對(duì)外來(lái)電磁波產(chǎn)生抵消作用。對(duì)于低頻電磁波,通常可以采用具有高導(dǎo)磁率的材料,使磁力線限制在屏蔽體內(nèi)部,防止電磁波擴(kuò)散。


 產(chǎn)品分類(lèi)   

影響材料電磁屏蔽效能的因素包括材料的電導(dǎo)率、磁導(dǎo)率及厚度等。

根據(jù)電磁屏蔽的機(jī)理,電磁屏蔽產(chǎn)品設(shè)計(jì)可以結(jié)合屏蔽的電磁波頻段,采取高導(dǎo)電率或高導(dǎo)磁率的材料進(jìn)行開(kāi)發(fā),根據(jù)不同的應(yīng)用場(chǎng)合和工藝來(lái)制作不同形態(tài)的電磁屏蔽材料。

按照材料的制備工藝劃分,電磁屏蔽材料主要包括三大類(lèi):

1)金屬類(lèi):直接選擇金屬材料,如鈹銅、不銹鋼等;

2)填充類(lèi):在不導(dǎo)電的基材中添加一定比例的導(dǎo)電填料從而使得材料導(dǎo)電,基材可采用硅膠、塑料等材料,導(dǎo)電填料可以是金屬片、金屬粉末、金屬纖維或金屬化纖維等材料;

3)表面敷層和導(dǎo)電涂料類(lèi):對(duì)基材進(jìn)行電鍍,如導(dǎo)電布等。而從器件的角度來(lái)看,目前廣泛應(yīng)用的電磁屏蔽器件主要包括導(dǎo)電塑料器件、導(dǎo)電硅膠、金屬屏蔽器件、導(dǎo)電布襯墊、吸波器件等。


 基站應(yīng)用   

基站外殼一般是鋁合金壓鑄件,為了實(shí)現(xiàn)整體的電磁輻射防護(hù),需要在壓鑄件接縫處用導(dǎo)電硅膠條連接。導(dǎo)電硅膠條將鋁合金基站殼體形成一個(gè)連續(xù)的導(dǎo)電體,通過(guò)導(dǎo)電體的渦流效應(yīng)和反射效應(yīng)將電磁波限制在基站內(nèi)部,從而防止電磁波泄露造成輻射。對(duì)于5G高頻通信而言,導(dǎo)電硅膠條的電磁屏蔽效能主要是通過(guò)渦流效應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn),材料的導(dǎo)電性越強(qiáng)渦流效應(yīng)越明顯,因而,要想提高電磁屏蔽效能,需要材料具有更高的導(dǎo)電性。除了導(dǎo)電性以外,導(dǎo)電硅膠條要滿足特定的機(jī)械性能才能滿足實(shí)際應(yīng)用需要,導(dǎo)電硅膠條必須能夠經(jīng)受?chē)?yán)格的環(huán)境老化測(cè)試。

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除了采用導(dǎo)電膠條對(duì)基站殼體進(jìn)行整體屏蔽以外,基站內(nèi)部也需要對(duì)電子元器件進(jìn)行局部的電磁屏蔽處理,以防止信號(hào)的相互干擾。現(xiàn)場(chǎng)成型工藝(Form in place,簡(jiǎn)稱FIP)可以精準(zhǔn)地將導(dǎo)電膠涂在所需部位,工藝簡(jiǎn)單,可以在復(fù)雜表面成型,材料利用率高,非常適合基站設(shè)備的局部電磁防護(hù)。

手機(jī)應(yīng)用   

傳統(tǒng)的手機(jī)EMI屏蔽是采用金屬屏蔽罩,屏蔽罩在橫向上要占用寶貴的PCB面積,縱向上也要占用設(shè)備內(nèi)部的立體空間。目前手機(jī)應(yīng)用中具有代表性的技術(shù)是共形屏蔽(Conformal shielding)和劃區(qū)屏蔽(Compartment shielding)。

共形屏蔽是將屏蔽層和封裝完全融合在一起,模組自身就帶有屏蔽功能,芯片貼裝在PCB上后,不再需要外加屏蔽罩,不占用額外的設(shè)備空間,從而解決這一難題。共形屏蔽實(shí)現(xiàn)了極好的屏蔽效果,在遠(yuǎn)場(chǎng)高達(dá)12GHz,近場(chǎng)高達(dá)6GHz,以及10MHz-100MHz的低頻,屏蔽效果在30dB以上。共形屏蔽主要用于PA,WiFi/BT、Memory等SiP模組封裝上,用來(lái)隔離封裝內(nèi)部電路與外部系統(tǒng)之間的干擾。iPhone 7主板上,大部分芯片都采用了Conformal shielding技術(shù),包括WiFi/BT、PA、Memory等模組,達(dá)到高度集成且輕薄短小的目的。

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劃區(qū)屏蔽(Compartment shielding)可用于封裝外部屏蔽,以及對(duì)封裝內(nèi)部各子系統(tǒng)模塊間實(shí)現(xiàn)隔離。其由Conformal shielding技術(shù)改進(jìn)而來(lái),用激光打穿塑封體,露出封裝基板上的接地銅箔,灌入導(dǎo)電填料形成屏蔽墻,并與封裝表面的共形屏蔽層一起將各子系統(tǒng)完全隔離開(kāi)。另外,劃區(qū)屏蔽將屏蔽腔劃分成小腔體,減小了屏蔽腔的尺寸,其諧振頻率遠(yuǎn)高于系統(tǒng)噪聲頻率,避免了電磁共振,從而使得系統(tǒng)更穩(wěn)定。例如apple watch的S1模塊采用了此技術(shù)。

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 5G電磁屏蔽材料開(kāi)發(fā)展望   

2019全球電磁屏蔽材料市場(chǎng)分布:導(dǎo)電涂層36%、金屬柜15%、導(dǎo)電塑料10%、層壓板/膠帶/箔材4%、其他35%。根據(jù)BCC Research的預(yù)測(cè),全球EMI/RFI屏蔽材料市場(chǎng)規(guī)模將從2016年的60億美元提高到2021年的78億美元,復(fù)合增長(zhǎng)率近6%。而隨著5G的快速發(fā)展和普及,電磁屏蔽材料市場(chǎng)將會(huì)更加擴(kuò)大。產(chǎn)品向高覆蓋、輕量化、高標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)模化轉(zhuǎn)變,對(duì)于行業(yè)來(lái)說(shuō)既是機(jī)遇又是挑戰(zhàn)。

(1)高覆蓋:電磁屏蔽材料向?qū)掝l化方向發(fā)展,能夠覆蓋中低頻和高頻電磁波的屏蔽;

(2)輕量化:未來(lái)通信基站和電子元器件的體積變小,要求電磁屏蔽材料具有輕量化、超薄化特性;

(3)高標(biāo)準(zhǔn):出于對(duì)生命和健康的重視,電磁屏蔽的標(biāo)準(zhǔn)更加嚴(yán)格,屏蔽效能要求更高;

(4)規(guī)模化:從設(shè)計(jì)和制造的角度來(lái)講,電磁屏蔽材料的加工工藝應(yīng)更為簡(jiǎn)單,性價(jià)比高,適合大批量生產(chǎn)。

國(guó)際上電磁屏蔽材料企業(yè)有Laird、ChomericsNolato等,國(guó)內(nèi)企業(yè)如深圳飛榮達(dá)、北京中石科技、深圳鴻富誠(chéng)、深圳博恩實(shí)業(yè)等。在產(chǎn)品性能上,國(guó)外企業(yè)長(zhǎng)期壟斷了中高端電磁屏蔽產(chǎn)品市場(chǎng),國(guó)內(nèi)企業(yè)的產(chǎn)品性能相對(duì)較差,一般用于中低端產(chǎn)品上。另外,國(guó)內(nèi)企業(yè)的研發(fā)實(shí)力和技術(shù)創(chuàng)新能力不足,對(duì)終端廠商日益提高的性能需求無(wú)法滿足。總體上講,國(guó)內(nèi)材料廠商的技術(shù)開(kāi)發(fā)水平尚亟待提高。目前國(guó)內(nèi)領(lǐng)先廠商注重研發(fā)投入的持續(xù)性,提前布局適用于5G時(shí)代的新工藝和新產(chǎn)品應(yīng)用,未來(lái)份額有望持續(xù)增長(zhǎng)并保證盈利水平。

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